擴散爐是做什么用的，你認識擴散爐嗎？

近年來，我國擴散設備的升級換代發展迅速，技術進步速度前所未有。在技術不斷發展的今天，你知道擴散爐是做什么用的嗎？你認識擴散爐嗎？

1.擴散爐的用途是什么？

它是半導體生產線預處理的重要工藝設備之一，用于大規模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光纖等行業的擴散、氧化、退火、合金和燒結工藝。

2.使用了哪些工藝？

采用擴散法和氧化法。

擴散工藝的主要目的是在高溫條件下對半導體晶片進行摻雜，即元素磷和硼，使其擴散到硅晶片中，從而改變和控制半導體中雜質的類型、濃度和分布，從而建立不同的電特性區。最新的低壓磷擴散采用低壓氛圍，以獲得更好的阻塊均勻性和更大的生產批量，同時對環境的影響最小。

氧化過程是使硅表面在高溫下與氧化劑反應，形成一層二氧化硅膜。氧化方法包括干氧和濕氧，濕氧包括水蒸氣氧化和氫氧合成。

3.擴散爐的類型有哪些？

有兩種類型：垂直擴散爐和水平擴散爐。

垂直擴散爐是垂直于水平面的石英舟，更有利于硅片的機械轉移，晶片中工藝參數的一致性更好。

水平擴散爐是平行于水平面的石英舟。一個可以具有4個或更多個工藝爐管。平均爐管面積較小，板間工藝參數優于垂直擴散爐。

雖然近年來我國的技術進步速度前所未有，但總的來說，先進與落后并存，總體技術水平與國際先進水平還存在一定差距，特別是在設備自動化和局部細節方面。然而，憑借國內擴散設備可靠性好、技術先進、性價比高的優勢，實力雄厚的國內設備研發企業的擴散設備已出口，深受東南亞和歐美客戶的青睞。一旦技術服務網建立，預計批量出口不成問題。